半導體
半導體
利用世偉洛克在半導體流體系統和製程中的技術專家專長，包括原子層沉積、銅沉積、鈷沉積、化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、化學機械拋光和晶圓清洗。讓世偉洛克幫助您在超高純生產中達到您的目標。您可以相信世偉洛克提供您所需的產品，這樣你就可以放心地生產產品。
沉積製程
無論您的製程是否包括生成均勻膜的ALD、或通過氣體混合物進行粒子應用的PVD和CVD，世偉洛克具有在基底上沉積的解決方案。
化學機械拋光/平面化（CMP）
世偉洛克產品提供液體和氣體輸送解決方案，供使用化學和機械力提供光滑圓片晶圓的應用。
晶圓的清洗
越來越苛刻激進的化學反應被用於清洗晶圓，那麼就需要更多的可靠的解決方案在確保不破壞基底的情況下來輸送關鍵苛刻的流體。世偉洛克的產品
甚至在困難有挑戰的情況下依然能提供無洩漏的密封性能。